Оборудование для поверхностного монтажа
Мы сертифицированы ИСО 9001
Тел.  +7 (495) 964 47 48
Факс +7 (495) 964 47 39
ExpoElectronica Moscow 2024

С 16 по 18 апреля 2024 года в Москве в МВЦ «Крокус Экспо» состоится 26 международная выставка электроники,

которая представляет всю цепочку производства от

изготовления компонентов до разработки и сборки конечных электронных систем.

подробнее...

Плазменная установка подготовки поверхности GD-10

Плазменная установка подготовки поверхности GD-10

Плазменная вакуумная установка подготовки поверхности GD-10 предназначена для подготовки поверхности компонентов, таких как BGA, непосредственно перед монтажом шариков припоя. Технология плазменной очистки использует характеристики низкотемпературной плазмы для обеспечения взаимодействия плазмы с поверхностью материала, таким образом, что поверхность обрабатываемого материала подвергается химическому и поверхностному травлению, и как результат физической очистке.

Плазменная установка подготовки поверхности GD-10-1
Плазменная установка подготовки поверхности GD-10-2
Плазменная установка подготовки поверхности GD-10-3
Технические характеристики
GD-10RF GD-10
Частота волновода 13,56 МГц 40 кГц
Объем 10 л
Внутренние размеры камеры 250 х 200 х 200 мм
Материал камеры 316 нержавеющая сталь
Размещение изделий на полках размером 175 х 185 мм, всего 3 полки
Расходомер на 2 канала
Вакуум 30-100 Па
Применяемые газы Ar、N2、O2、воздух
Управление PLC + тачскрин
Электропитание 220В; 300 Вт
Габаритные размеры 600 x 560 x 400 мм
Вес 100 кг