Оборудование для печатных плат
Мы сертифицированы ИСО 9001
Тел. +7 (495) 964 47 48
Факс +7 (495) 964 47 39

Установка экспонирования печатных плат

Установка очистки печатных плат
 

Установка экспонирования печатных плат серии UVE-M предназначена для двухстороннего экспонирования фоторезиста и паяльной маски печатных плат. Установка состоит из системы экспонирования, двух вакуумных рам, системы охлаждения ламп и системы управления процессом экспонирования. Система экспонирования состоит из двух УФ ламп мощностью 5 или 7 кВт. Лампы расположены вместе со специальными отражателями сверху и снизу камеры экспонирования и обеспечивают высокую равномерность излучения по всей площади рамы.

 
Особенности:
  • высокая интенсивность экспонирования
  • две рамы экспонирования пленка/пленка
  • специальная вакуумная система для рамы пленка/пленка
  • простая смена пленки
  • одновременное экспонирование с двух сторон
  • замкнутое водяное охлаждение ламп
  • до 4 наборов предустановок параметров экспонирования
  • автоматические шторки для предохранения от попадания УФ лучей в рабочую зону
  • равномерность освещенности по всему полю экспонирования более 80%
  • система ЧПУ для управления и контроля установки экспонирования
Технические характеристики
  UVE-M500 UVE-M720
Верх рамы майларовая пленка майларовая пленка
Низ рамы стекло стекло
Площадь экспонирования 610 x 740 мм 610 x 915 мм
Производительность для фоторезиста 120 плат в час 120 плат в час
Производительность для паяльной маски 90 плат в час 120 плат в час
Лампы 2 х 5 кВт 2 х 7 кВт
Равномерность излучения более 80% более 80%
Охлаждение ламп водяное водяное