Материалы и Химикаты
   Мы сертифицированы ИСО 9001
тел.:  (495) 964 47 48
факс: (495) 964 47 39
РТС Инжиниринг Третье десятилетие в бизнесе!
 
Словарь терминов раздела
 

Проявление фоторезиста (Developing)

Процесс проявления фоторезиста происходит за счет растворения не проэкспонированных (не засвеченных) участков фоторезиста на печатной плате водно-щелочными растворами. Проявление фоторезиста производится в установках проявления Developing Machine различной конструктивной сложности. Процесс проявления Advantage 2000 GT Developer  разработан Rohm and Haas специально для использования с сухими пленочными фоторезистами и защитными паяльными масками.  GT Developer поставляется в форме концентрата, его следует разбавлять чистой  водой до рабочей концентрации.

По сравнению с обычными растворами карбоната калия или натрия, GT Developer в состоянии обработать в два раза больше резиста. GT Developer рекомендуется для сухого пленочного, жидкого резиста, а также для твердых и жидких защитных паяльных масок как производства Rohm and Haas так и других производителей.

ООО "РТС Инжиниринг"